| 产品特性：高真空 | 加工定制：是 | 品牌：晨立 |
| 型号：CL | 用途：退火 | 是否支持加工定制：是 |
| 是否进口：否 | 炉管数：1-4管 | 配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸) |
| 悬臂舟速度：20～1000 mm/min | 气体控制：浮子/质量流量计 | 悬臂舟行程：2000 mm |
| 悬臂舟精度：±1mm | 工作温度：≤1300℃ |
用途：
高真空退火炉供大规模集成电路、MEMS 生产线用做6"硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。同时也可下沉工艺，完成4寸wafer 的相应工艺。
一、设备结构:
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圆形6寸片
3、工艺布局:满足客户工艺要求
4、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程
5、送取片方式:手动进出舟。
6、外形:主机1台，主机架为卧式两管。
二、主要技术参数:
1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。
2、工作温度范围: 200~800℃
3、恒温区长度及精度: 600mm，
4、控制方式:由工控机统一管理工艺
5、真空度：2*10-4 Pa
