| 产品特性：氧化扩散 | 加工定制：是 | 品牌：晨立 |
| 型号：CL4513 | 用途：氧化、扩散、烧结、合金 | 工艺管数量：1-4管 |
| 工艺管口径：Φ90～360 mm | 气源路数：≤7路 | 单点稳定性：±1.0℃/24h |
| 恒温区长度：760～1000 mm±1.0℃ | 硅片尺寸：156*156方片/准方片 |
扩散炉
设备主要技术指标：
1. 外型形式：单管立式，加热
2. 硅片尺寸：156*156方片/准方片
3. 工作温度范围：400-1200℃
4. 恒温区长度：≥300mm，单次可装载10片156*156方形硅片，背靠背装片模式，配石英舟
5. 恒温区精度：±0.5℃/300mm
6. 气路系统：三路气体系统，采用进口MKS质量流量计、气动阀、等进口部件
7. 温度控制系统：PLC+触摸屏可编程控制方式，自动加手动可方便切换，温控系统采用进口温控仪，温度、流按工艺自动调节
8. 扩散方式：设备配置真空系统，支持负压扩散方式
9 尾气处理：设备配备尾气处理系统，采用溶液吸收发吸收尾气中的有害成分
10.冷却系统：设备配有冷水系统，用于保护密封装置及冷却加热器外壳
11. 报警及保护：超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护
CL系列的立式扩散炉为我公司根据客户需求定制的扩散炉设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
