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高温退火炉 ***代半导体工艺设备 晨立电子供应扩散炉
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高温退火炉 ***代半导体工艺设备 晨立电子供应扩散炉

产品标签  | 退火炉 管式退火炉 扩散炉 氧化炉 真空炉

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高温退火炉 ***代半导体工艺设备 晨立电子供应扩散炉

卧式6寸两管退火炉供大规模集成电路、MEMS生产线用做6"硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。同时也可下沉工艺，完成4寸wafer的相应工艺。

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    产品特性：氧化退火加工定制：是品牌：晨立
    型号：CL用途：合金、氧化、退火、烧结、扩散操作方式：左(右)手操作方式
    硅片尺寸：圆形6寸片送取片方式：手动进出舟工艺布局：满足客户工艺要求

    用途：

      ***代的半导体材料：硅(Si)、锗(Ge)

       目前，半导体器件和集成电路仍然主要是用硅晶体材料制造的，硅器件构成了全球销售的所有半导体产品的95％以上。硅半导体材料及其集成电路的发展导致了微型计算机的出现和整个信息产业的飞跃。

      青岛晨立***代半导体工艺设备。主要适用于科研单位、高等院校、及企业对集成电路、分立器件硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。



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