| 产品特性：氧化扩散 | 加工定制：是 | 品牌：晨立 |
| 型号：CL4513 | 用途：氧化、扩散、烧结、合金 | 工艺管数量：1-4管 |
| 工艺管口径：Φ90～360 mm | 气源路数：≤7路 | 单点稳定性：±1.0℃/24h |
| 恒温区长度：760～1000 mm±1.0℃ |
外型形式：卧式1—4管结构 程控高低温扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业，对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
技术指标：
可处理硅片尺寸：2—12英寸
工作温度：200℃—1300℃
恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性：≤±1.5℃／24h
温度斜变：可控升温速率20℃／min，
可控降温速率：5℃／min
送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
气路系统：1—5路工艺气体管
气体控制：全自动MFC、手动浮子流量计
控制方式：工控机、触摸屏
晨立公司拥有十几年的 研发制造经验。自成立以来，坚持产品设计和服务质量共同发展，积极进取，精益求精，不断提高产品核心竞争力。公司产品拥有完全自主产权。
